Neste trabalho mostramos o estudo e a caracterização de diversos processos de deposição química autocatalítica de níquel para aplicações em microeletrônica e nanotecnologia. São mostrados processos de deposição química por diversas técnicas, bem como os resultados de análises de composição química, rugosidade superficial e espessura de filmes de Níquel e ligas Níquel-Fósforo pelas técnicas de RBS, AFM, TRXFA. Também é mostrada a caracterização elétrica de capacitores MOS construídos com essa técnica de deposição.