A litografia representa uma importante ferramenta para o desenvolvimento tecnológico de nano e micro sistemas eletromecânicos. Esses sistemas podem ter funções de sensores de posicionamento como acelerômetros e giroscópios, motores, sensores de pressão, etc. As técnicas de litografia estão cada vez mais diversificadas e precisas. Neste trabalho foram desenvolvidas duas técnicas de litografia do tipo bottom-up usando o Microscópio de Força Atômica (MFA). Na primeira técnica de nanofabricação o padrão é transferido mecanicamente utilizando a sonda do MFA. Na segunda técnica de nanofabricação uma nanomáscara de óxido de germânio é criada através da oxidação anódica local, também utilizando a sonda do MFA. Outro importante tema abordado neste trabalho é o problema da reversão da magnetização em sistemas com dimensões finitas, tais como nanofios. A partir das duas técnicas de litografia desenvolvidas neste trabalho diversos nanofios magnéticos foram fabricados. A reversão da magnetização desses nanofios foi investigada e modelada a partir de medidas feitas com a técnica de magnetoresistência.